台湾知的財産権ニュース（No.267）

発行：特許庁委託（公財）日本台湾交流協会
台湾知的財産権ニュース
（No．267）
発行年月日：2018年4月30日発行

主要ニュース目次

１． 智慧局ニュース
（2018年4月26日　智慧局ニュース全訳）
１－１　2018年第１四半期の知的財産権動向
２． 法律・制度
（2018年4月18日　自由時報電子報全訳）
２－１　CPTPP加入のため立法院が商標法、専利法、著作権法改正条文を可決
３． 知的財産権紛争
（2018年4月13日　経済日報要訳）
３－１　メディアテックの元社員が米クアルコムに技術漏洩
（2018年4月19日　中国時報桃竹苗新聞第A13面、聯合報第B1面の要訳）
３－２　台積電（TSMC）の元エンジニアが機密漏洩

１.　智慧局ニュース

（２０１８．０４ ．２６　智慧局ニュース全訳）
１－１　2018年第１四半期の知的財産権動向
2018年第1四半期における特許、実用新案、意匠の三種類の専利出願件数は17,674件（前年同期比0.03％増）となった。そのうち特許は5四半期連続のプラス成長、商標登録出願数は20,210件（前年同期比7％増）で6四半期連続のプラス成長となり、ここ1年余りで特許及び商標登録の件数はいずれも安定的な増加傾向にある（表3参照）。
一、 今期の専利出願の動向
（一）三種類の専利のうち、特許が安定的な成長を維持
2018年第1四半期に智慧局が受理した三種類の専利出願件数は17,674件（前年同期比0.03％増）で、その内訳は、特許が11,420件（前年同期比2％増）で5四半期連続のプラス成長であった。また意匠が1,938件（前年同期比5％増）、実用新案が4,316件（前年同期比7％減）であった（表1、表3参照）。
（二）特許出願において台湾人出願人が6四半期連続のプラス成長で、外国人出願人はプラスからマイナス成長へ
特許出願を国籍別でみると、台湾人出願人が4,081件（前年同期比9％増）で、連続6四半期のプラス成長であった。外国人出願人が7,339件（前年同期比1％減）でプラスからマイナス成長に転じた（表1、表3参照）。外国人出願人のうち、日本が3,648件と1位を占め、次いで米国の1,608件となった（図1参照）。
（三）意匠出願の今期の成長率はマイナスからプラスに転じ、台湾人出願人が最多
今期の意匠出願件数は1,938件（前年同期比5％増）で、3四半期連続のマイナス成長に終わりを告げ、プラスに転じた。そのうち台湾人出願人が1,049件（前年同期比10％増）、外国人出願人が889件（前年同期比1％増）と台湾人出願人の成長率が加速した（表1、表3参照）。
（四）特許出願における台湾法人の見事な成果
1. 特許出願の出願人を見てみると、企業出願が3,013件（前年同期比10％増）、高等教育機関が355件（前年同期比11％増）、研究機関が126件（前年同期比17％増）といずれも2桁成長であった（表6参照）。
2. 台湾法人においては、友達光電（AUO：133件、129％増）が2年ぶりに台湾法人の1位に返り咲いた。また、光陽工業（KYMCO）は初めてのランクインで台湾法人の特許出願件数で10位となり、前年同期比825％増という台湾・外国法人の特許出願トップ10における最高成長率の企業であり、今後の発展が注目される（図2参照）。
3. 高等教育機関においては、国立清華大学が前年同期比43％減のほかは、いずれの大学もプラス成長で、とりわけ出願件数トップの国立交通大学は23件（前年同期比130％増）であった。国公立大学と私立大学の出願件数は、それぞれ229件、126件で、高等教育機関全体の国公立と私立の出願件数の割合は、それぞれ65％、35％で、およそ2：1の割合であった（表2、図6参照）。
4. 研究機関においては、工業技術研究院が50件（前年同期比19％増）と最多となった。出願件数上位5位のうち、中央研究院が前年同期比20％減となったほかは、いずれも出願件数は増加し、増加幅は19％～333％であった（表9参照）。
（五）外国法人の特許出願件数トップはクアルコム
外国法人において、特許出願件数上位5社は、それぞれクアルコム（335件）、アプライド・マテリアルズ（116件）、東京エレクトロン（100件）、富士フィルム（79件）、アリババ（76件）で、アリババが激減したほかは、いずれの法人もプラス成長となり、クアルコムは133％増と最多となった。また、特許出願件数上位10社のうち過半数（6社）が日系企業で、台湾におけるポートフォリオに積極的であることがうかがえる（図2参照）。

二、 今期の商標出願の動向
（一）2018年第1四半期における商標登録出願件数は20,210件（前年同期比7％増）で6四半期連続のプラス成長となった（表1、表3参照）。
（二）台湾人、外国人の出願件数はいずれも成長、とりわけ外国人の出願件数は22％増と過去最高を記録
台湾人出願件数は14,258件、外国人出願件数は5,952件でそれぞれ1％増、22％増となり、外国人の出願件数の成長が顕著であった（表1参照）。
（三）海外から台湾への出願件数上位5カ国の出願件数はいずれもプラス成長
外国人出願人を国籍別にみると、日本が1,177件と最も多く、次いで中国の1,155件、米国の1,045件、韓国の367件、香港の320件であった。海外から台湾への出願件数上位5カ国の出願件数は、その多くが二桁成長で、特に日本は34％増の最多となった（図1参照）。

2018年第１四半期季報は、下記リンク先の智慧局サイトの「統計季報」を参照。
www.tipo.gov.tw/lp.asp?ctNode=6801&CtUnit=3308&BaseDSD=7&mp=1

２.　法律・制度

（２０１８．０４．１８　自由時報電子報道全訳）
２－１　CPTPP加入のため立法院が商標法、専利法、著作権法改正条文を可決
新TPP（CPTPP：環太平洋パートナーシップに関する包括的及び先進的な協定）への加入に向け、立法院経済委員会は本日、商標の権利侵害の主観要件には「故意又は過失」があればよく「明らかに知る」要件は必要とせず、タグ・包装等の模倣行為も刑事責任を科すことを含めた知財関連の法改正を可決した。
立法院経済委員会は本日、「商標法一部条文改正草案」、「専利法第60条の1の改正草案」、「著作権法一部条文改正草案」を可決した。
現行の「商標法」の規定によると、権利侵害の主観条件に該当するには、行為者が「明らかに知っていた」のでなければならない。CPTPPの基準に合わせるため、草案では権利侵害の民事責任については、「故意又は過失」を条件とし、刑事罰は「故意」を要件とし、「明らかに知っていた」という条件を取消した。
不当業者によるタグ又は包装を模倣販売して利益を得ることについては、従来は民事責任のみで刑事責任を科すことはできなかった。草案では、権利侵害行為について1年以下の有期懲役を科すことができると規定された。
去年年末にすでに三読可決（最終可決）された「薬事法改正案」については、新薬の特許権者は訴訟提起が可能となった。いっぽう、ジェネリックメーカーが権利侵害の争議に係ることのないよう、草案でもジェネリックメーカーに対し、新薬の特許権者が時間稼ぎのために権利侵害訴訟を提起しない場合、確認訴訟を提起することができる。
現在の海賊版の形式が光ディスクのコピーに限らないことを鑑み、草案の海賊版光ディスクの文言について、権利侵害に係る態様であれば、光ディスク、USB、ポータブルハードディスク、オンライン送信などいずれについても規範する範囲に盛り込むこととした。

３.　知的財産権紛争

（２０１８．０４ ．１３ 経済日報要訳）
３－１　メディアテックの元社員が米クアルコムに技術漏洩
聯發科技（メディアテック）の魏という元エンジニアが同業ライバルの米クアルコムに転職する際、メディアテックが新しく研究開発したデュアルカメラ技術等を漏洩したことから、台北地方法院は12日、魏に対し営業秘密法違反の罪で、50日の労役を科し、罰金5万台湾元（約18万円）への転換可、執行猶予2年、公庫への支払い40万元（約136万円）の判決を言い渡した。
魏は2010年にメディアテックに入社し、2015年に同社マルチメディア研究開発部に異動。米クアルコムへの転職のチャンスをつかむため、メディアテックの新しいデュアルカメラ技術、チップデザイン及びアルゴリズムソースコード、携帯ソフトウェアソースコード等のファイルをダウンロードしてノートパソコンに保存し、2016年1月米クアルコムでの面接の際、プレゼンでこれらの資料を使用し採用された。
知的財産権案件を担当したことのある検察官及び弁護士は、台湾のテクノロジー産業は「帯槍投靠（武器を持って敵に投降する：裏切り）」の例が少なくなく、刑罰も軽いことから関連犯罪の発生を抑止することができないほか、中国による台湾人材の争奪も激しく、法律で台湾テクノロジー産業に対し保護が行き届かない場合、台湾産業の発展に更に影響するとの見解を示した。なお、今回の判決を受け、メディアテックの郭思吟・法務処長は上訴する意向を示した。

（２０１８．０４ ．１９　聨合報第Ｂ１面、中国時報桃竹苗新聞第Ａ１３面の要訳）
３－２　台積電（TSMC）の元エンジニアが機密漏洩
半導体受託生産（ファウンドリー）最大手の台湾積体電路製造（TSMC）の呉という元エンジニアは、昨年9月に28ナノメートルの重要製造プロセスに関するファイルを大量コピーし、同年12月に中国無錫の華潤上華科技に転職しようとしていたが、TSMCでの離職手続き前に違法行為を発見された。新竹地方検察署は18日、営業秘密法違反等の罪で、呉を起訴した。
TSMCの28ナノメートル製造プロセス技術は、同社の主力技術の一つで、中国のテクノロジー企業は、高額報酬と引き換えに台湾のテクノロジー人材を積極的にヘッドハンティングしており、昨年もTSMCの元社員が同様の手口で逮捕されている。
TSMC側は、知的財産及び技術を断固として保持し、機密窃取という不正行為を行ういかなる者に対しても同社はこれを絶対に容認しないと述べた。
なお、呉に対し賠償請求を行うかについては、同社はコメントを差し控えている。

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