知的財産委員会について 年間行事予定 関連法令法規 調査報告書等 模倣対策情報 台湾当局提供情報
司法関連情報 知財セミナー(日本開催) 知的財産勉強会(台湾開催) 弁護士弁理士事務所
委員会からのお知らせ 勉強会.セミナー メールマガジン 関連リンク よくあるご質問 お問い合わせ

メールマガジン最新号

メールマガジン319号

発行:特許庁委託(公財)日本台湾交流協会
台湾知的財産権ニュース
(No.319)
発行年月日:2021年9月30日・10月15日合併号

 

主要ニュース目次

1. 智慧局ニュース
(2021年9月29日 智慧局ニュース全訳)
1-1 「産業協力のための特許審査面接試行作業方案」の制定予告
(2021年10月6日 智慧局ニュース全訳)
1-2 主要国特許庁が受理した2020年度の専利・商標出願概況

 

1.智慧局ニュース

(2021.09.29 智慧局ニュース全訳)
1-1 「産業協力のための特許審査面接試行作業方案」の制定予告
www.tipo.gov.tw/tw/cp-85-897029-99a63-1.html
一、 特許審査官が先端テクノロジーの特許出願の技術内容を迅速に把握し、審査効率及び品質を向上させ、並びに迅速な特許取得を希望する出願人のニーズを満たし、その特許ポートフォリオ展開に利するよう、本局は「産業協力のための特許審査面接試行作業方案」を制定し、方案の適用対象及び実施方法を明文化し、2021年11月1日から1年間の試行を企画する。
二、「産業協力のための特許審査面接試行作業方案草案(中国語:產業協力專利審查面詢試行作業方案草案)」の日本語訳は下記を参照。また、同草案の中国語原文、及び「産業協力のための特許審査面接試行作業方案Q&A(中国語:產業協力專利審查面詢試行作業方案)」は、上記リンク先の智慧局サイトの「檔案下載(ファイルダウンロード)」をご参照のこと。

 

産業協力のための特許審査面接試行作業方案(草案)
特許審査官が先端テクノロジー特許出願の技術内容を迅速に把握し、審査効率及び品質を向上させ、並びにできる限り速やかに特許取得を希望する出願人のニーズを満たし、その特許ポートフォリオ展開に利するよう、本方案を制定する。
本方案は2021年11月1日から1年間試行し、試行期間において、本局は審査力を考慮し、本方案の変更又は終了をすることができる。試行終了後、本局は試行状況を踏まえて継続するか否かを検討する。

 

一、 適用対象
同一出願人の先端テクノロジー特許出願について、本局が実体審査に入る旨を通知後、まだ審査意見通知書又は査定書を受け取っていない場合。

 

二、先端テクノロジーの範囲(方案適用の技術分野)
本方案でいう先端テクノロジーとは、幹細胞再生医学、医療看護情報学Micro LEDディスプレイ、量子ドット太陽電池、ニューラルネット、量子情報、量子コンピュータ、3nm(ナノメートル)半導体プロセス、チップパッケージプローブ精密化、ねじれ二層グラフェン、第三世代(次世代)半導体材料、AI(人工知能)、IoT、ビッグデータ、ブロックチェーン、3Dプリンタ、5G(第5世代移動通信システム)、その他審査官が個別案件に基づき面接が必要と具体的に判断した技術を指す。

 

三、 実施方法
(一) 出願に以下のいずれかの状況がある場合、審査官は職権により面接通知をすることができる。
1. 審査官が先端テクノロジー関連の出願であると初歩的な判断をし、出願人に技術内容の説明の意思を確認したもの。
2. 出願人が産業協力のための特許審査面接意向書を提出し、且つ原則的に出願が10件以内で、審査官が本方案に符合すると判断したもの。
(二) 出願人が産業協力のための特許審査面接意向書を提出後、審査官が本方案に適用しないと判断した場合、審査官は電話で出願は一般審査手続により審査を続行すると通知する。
(三) 面接の際、出願の発明者、出願人又はその被雇用者等の発明技術関係者が出席し、審査官に出願の技術内容を説明しなければならない。出席できない場合、代理人に出席を委任し、オンライン会議設備を自ら用意し、発明技術関係者がオンライン会議の方法で審査官と意思疎通を行わなければならない。
(四) 面接記録には面接の時間、場所、参加者及び審査に必要な出願に関する技術又は事項を記載しなければならないが、出願人がそれは商業機密又は営業秘密であると表明した場合、記録しない。
(五) 面接終了後、本局は原則的に6ヵ月以内に審査結果を通知する。
(六) 本方案において規定されていない事項については、「経済部智慧財産局専利案件面接作業要点」により処理する。

 

四、 注意事項
(一) 本方案の面接は本局の局本部又は各地の服務処で行うことができる。
(二) 本方案に関する作業方法は本局の「産業協力のための特許審査面接試行作業方案Q&A」をご参考いただきたい。

 

(2021.10.06 智慧局ニュース全訳)
1-2 主要国特許庁が受理した2020年度の専利・商標出願概況
www.tipo.gov.tw/tw/cp-85-897073-ebb7b-1.html
2020年は新型コロナウイルス感染が世界に蔓延し、世界経済活動及び消費力にダメージを与えた。パンデミックに伴い、多くの国々や産業のデジタル転換を加速させ、主要国の特許庁はその国(地域)の競争力の優勢及び知的財産権の戦略的地位の向上に全力を注いだ。米国、日本、欧州、韓国、中国の特許庁(五庁)の2020年統計資料によると、中国及び韓国以外の各特許庁が受理した特許出願件数はいずれも減少し、意匠は全体的に増加、商標登録出願件数は日本を除いていずれもプラス成長となった。
世界知的所有権機関(WIPO)が公布した最新統計によると、2019年の世界の研究開発平均支出額は前年比8.5%増のプラス成長となり、台湾の台北-新竹発明者グループは、2015年~2019年の世界上位44 のPCTグループ、2021年世界上位28の科学・技術グループとなっており、イノベーション力は軽視できない。台湾人出願人の主要国特許庁における専利及び商標登録出願件数は、依然として米国及び中国をポートフォリオ展開の重点としている。
台湾人出願人による特許ポートフォリオにおいては、引き続き米国及び中国に集中しているが、米国への出願件数は19,241件、中国への出願件数は10,766件とそれぞれ前年比1.8%減、同3.5%減となった(図1参照)。台湾人出願人の意匠ポートフォリオは米国、欧州、中国を重点的に展開しており、そのうち中国における出願件数は1,326件で最多となったが、前年比19.0%減となった。次いで米国の1,205件(前年比7.5%増)、欧州の617件(前年比18.0%増)となった(図2参照)。
台湾人出願人による日米欧中韓の特許庁(五庁)への商標登録出願を区分別でみると、米国が2,142区分で最多となり、次いで欧州の1,355区分となった。また、中国による発表では14,441区分、日本による発表では884区分となった(いずれも区分数統計無し)。成長率においては、台湾人出願人による中国への出願件数は前年比26.8%減の大幅減少となったが、米国への商標出願区分数は前年比6.9%増となった(図3参照)。
台湾人出願人が五庁の最新の専利・商標出願及び登録傾向を把握することで、世界的なポートフォリオを展開し、企業の競争優位性を強化することに寄与するよう、本局は最新情報をまとめ「2020年台湾及び米国、日本、欧州、韓国、中国における専利商標出願及び登録概況」の報告書を作成した。本報告については、下記リンク先智慧局サイトの「2020年我國與美、日、歐、韓、中國大陸專利商標申請曁核准概況」(中国語)を参照。https://www.tipo.gov.tw/tw/cp-174-219414-a1c98-1.html

 

 

<メールマガジンのご登録・停止>
メールマガジンの登録や配信停止を希望する場合は、下記の宛先までメールをください。
E-mail:ipr-k1@tp.koryu.or.jp

 

過去のメールマガジン記事一覧

メールマガジン309号

メールマガジン308号

メールマガジン307号

メールマガジン306号

メールマガジン305号

メールマガジン304号

メールマガジン303号

メールマガジン302号

メールマガジン301号

メールマガジン300号